host ::
| Hlavní stránka > Konferenční materiály > Příspěvky z konference > Surface changes induced by plasma treatment and high temperature annealing of silicon dioxide microparticles |
Název:
Surface changes induced by plasma treatment and high temperature annealing of silicon dioxide microparticles
Autoři: Babčenko, Oleg ; Remeš, Zdeněk ; Beranová, Klára ; Kolářová, Kateřina ; Lörinc, J. ; Prošek, Z. ; Tesárek, P.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2023 - International Conference on Nanomaterials - Research & Application /15./, Brno (CZ), 20231018
Rok: 2024
Jazyk: eng
Abstrakt: Due to the high surface to volume ratio, the particles’ surface properties modification defines its properties in general, which is crucial for their use. From this point of view, plasma processing or high temperature annealing can be considered as the universal techniques for efficient modification of materials in the form of powder. In this study, the silicon dioxide microparticles have been treated in a hydrogen, oxygen or vacuum by low temperature plasma or annealing. The change of SiO2 microparticles properties was investigated by photoluminescence spectroscopy at room and low temperature. High temperature annealing in hydrogen induced under UV excitation photoluminescence in the near UV and visible light indicating the change of defect states on the surface of the microparticles. We believe that observed findings clearly demonstrate useful method for analysis of SiO2 microparticles surface modification attractive also for fundamental research.
Klíčová slova: annealing; measuring setup; photoluminescence; plasma treatment; silicon dioxide
Číslo projektu: GA23-05500S (CEP), 8X23025, LM2023051 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA MŠk
Zdrojový dokument: NANOCON 2023 Conference Proceedings, ISBN 978-80-88365-15-0, ISSN 2694-930X
Instituce: Fyzikální ústav AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný na externích webových stránkách.
Externí umístění souboru: https://www.confer.cz/nanocon/2023/read/4781-silicon-dioxide-microparticles-modification-by-temperature-and-plasma-treatment.pdf
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0354577
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-621033
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Fyzikální ústav
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Autoři: Babčenko, Oleg ; Remeš, Zdeněk ; Beranová, Klára ; Kolářová, Kateřina ; Lörinc, J. ; Prošek, Z. ; Tesárek, P.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2023 - International Conference on Nanomaterials - Research & Application /15./, Brno (CZ), 20231018
Rok: 2024
Jazyk: eng
Abstrakt: Due to the high surface to volume ratio, the particles’ surface properties modification defines its properties in general, which is crucial for their use. From this point of view, plasma processing or high temperature annealing can be considered as the universal techniques for efficient modification of materials in the form of powder. In this study, the silicon dioxide microparticles have been treated in a hydrogen, oxygen or vacuum by low temperature plasma or annealing. The change of SiO2 microparticles properties was investigated by photoluminescence spectroscopy at room and low temperature. High temperature annealing in hydrogen induced under UV excitation photoluminescence in the near UV and visible light indicating the change of defect states on the surface of the microparticles. We believe that observed findings clearly demonstrate useful method for analysis of SiO2 microparticles surface modification attractive also for fundamental research.
Klíčová slova: annealing; measuring setup; photoluminescence; plasma treatment; silicon dioxide
Číslo projektu: GA23-05500S (CEP), 8X23025, LM2023051 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA MŠk
Zdrojový dokument: NANOCON 2023 Conference Proceedings, ISBN 978-80-88365-15-0, ISSN 2694-930X
Instituce: Fyzikální ústav AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný na externích webových stránkách.
Externí umístění souboru: https://www.confer.cz/nanocon/2023/read/4781-silicon-dioxide-microparticles-modification-by-temperature-and-plasma-treatment.pdf
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0354577
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-621033
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Fyzikální ústav
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Záznam vytvořen dne 2024-07-20, naposledy upraven 2024-09-22.