Original title:
SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Translated title:
SMV-2018-04: Planar microstructures for optical applications
Authors:
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Pokorný, Pavel Document type: Research reports
Year:
2018
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie a dalších technik. Projekt zahrnuje studium materiálů vhodných pro vytvoření planární mikrostruktury v kovové vrstvě s ohledem na dosažitelné rozlišení a splnění požadavků na absorbanci v dané aplikaci. Elektronová litografie je použita pro vytvoření požadovaného motivu v rezistové vrstvě, která slouží jako maska pro leptání kovové vrstvy různými technikami (mokré leptání, reaktivní iontové leptání). Součástí projektu je i sepsání technické dokumentace o vyvinutých postupech a připravených vzorcích.The development of planar microstructures for optical applications, and subsequent realization of samples by the way of e-beam lithography and other techniques. Project deals with material study suited for the fabrication of planar microstructures in thin metallic layer with respect to achievable resolution and fulfilling the absorbance parameters for particular application. E-beam lithography is used for preparation the motif in resist layer, which is masking layer for the etching of metallic layer by various techniques (wet etching, reactive ion etching). Technical documentation of developed processes and prepared samples are also the part of the project.
Keywords:
e-beam lithography; optical density; photomask; reactive ion etching
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0290382