Název: SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Překlad názvu: SMV-2018-04: Planar microstructures for optical applications
Autoři: Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Pokorný, Pavel
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2018
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]

Klíčová slova: e-beam lithography; optical density; photomask; reactive ion etching

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0290382

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-390675


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Zprávy > Výzkumné zprávy
 Záznam vytvořen dne 2019-01-07, naposledy upraven 2021-11-24.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet