host ::
| Hlavní stránka > Konferenční materiály > Příspěvky z konference > Variable-shape E-beam litography: Proximity effect simulation of 3D micro and nano sructures |
Název:
Variable-shape E-beam litography: Proximity effect simulation of 3D micro and nano sructures
Autoři: Matějka, Milan ; Urbánek, M. ; Kolařík, V. ; Horáček, M. ; Krátký, Stanislav ; Mikšík, P. ; Vašina, J.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2012. International Conference /4./, Brno (CZ), 2012-10-23 / 2012-10-25
Rok: 2012
Jazyk: eng
Abstrakt: A proximity effect simulation technique and developed resist profile simulation for variable-shaped e-beam lithography of three dimensional structures are presented. The e-beam lithography is a technology process which allows high resolution patterning. Most frequently it is used for microfabrication or nanofabrication of two dimensional relief structures such as resist photo masks, etching masks, diffraction gratings, micro and nano optics, photonics and more. However, in the case of the 3D structures patterning the precise thickness control of developed resist is required. With regard to subsequent proximity effect correction, the proximity effect simulation and developed resist profile simulation models are in the case of 3D structures fabrication critically important. We show the results from simulation of exposure and resist development process for the chosen polymer resist (PMMA), using the patterning and simulation e-beam lithography software.
Klíčová slova: 3D resist structures; development process simulation; polymer resist; proximity effect simulation and correction; variable shape electron beam lithography
Číslo projektu: FR-TI1/576 (CEP), ED0017/01/01, TE01020233 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MPO, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings, ISBN 978-80-87294-32-1
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0219947
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-151689
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Autoři: Matějka, Milan ; Urbánek, M. ; Kolařík, V. ; Horáček, M. ; Krátký, Stanislav ; Mikšík, P. ; Vašina, J.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2012. International Conference /4./, Brno (CZ), 2012-10-23 / 2012-10-25
Rok: 2012
Jazyk: eng
Abstrakt: A proximity effect simulation technique and developed resist profile simulation for variable-shaped e-beam lithography of three dimensional structures are presented. The e-beam lithography is a technology process which allows high resolution patterning. Most frequently it is used for microfabrication or nanofabrication of two dimensional relief structures such as resist photo masks, etching masks, diffraction gratings, micro and nano optics, photonics and more. However, in the case of the 3D structures patterning the precise thickness control of developed resist is required. With regard to subsequent proximity effect correction, the proximity effect simulation and developed resist profile simulation models are in the case of 3D structures fabrication critically important. We show the results from simulation of exposure and resist development process for the chosen polymer resist (PMMA), using the patterning and simulation e-beam lithography software.
Klíčová slova: 3D resist structures; development process simulation; polymer resist; proximity effect simulation and correction; variable shape electron beam lithography
Číslo projektu: FR-TI1/576 (CEP), ED0017/01/01, TE01020233 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MPO, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2012, 4th International Conference Proceedings, ISBN 978-80-87294-32-1
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0219947
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-151689
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Záznam vytvořen dne 2013-03-20, naposledy upraven 2021-11-24.