|
Studium beta fáze v Al-Mg-Si slitinách pomocí nekonvenčních metod elektronové mikroskopie
Ligas, Aleš ; Julišová, Martina (oponent) ; Mikmeková, Šárka (vedoucí práce)
Hliníkové Al-Mg-Si slitiny nachází hlavní uplatnění především v automobilovém a stavebním průmyslu. Hexagonální ’ fáze je jednou z fází objevených v tomto typu slitin. Oproti klasické čtvercové -fází se vyznačuje rozdílnou krystalovou orientací vůči matrici a tvarem. Tradiční metodou pro jejich zobrazování je klasická rastrovací elektronová mikroskopie (SEM), navzdory tomu, že v mnoha případech neposkytuje dostatečné informace. Je to rychlé a efektivní, avšak není dostatečnou v případě tenkých nebo poškozených precipitátů v důsledku připravného metalografického procesu. Pozorovat a jednoznačně identifikovat tyto precipitáty by mohla pomoci rastrovací nízkoenergiová elektronová mikroskopie, která díky fyzikálním principům nabízí v porovnání se SEM řadu nezanedbatelných výhod jako jsou zmenšení interakčního objemu, zlepšení materiálového kontrastu i vyšší kontrast krystalografický.
|
| |
|
Opravy filtračních částí ionexových filtrů na JE
Kloboučník, Martin ; Mrňa, Libor (oponent) ; Kubíček, Jaroslav (vedoucí práce)
Diplomová práce je zaměřena na přípravu oprav ionexových filtrů na čistících stanicích provozních vod v jaderných elektrárnách. Krátce popisuje čistící stanice vod primárního a sekundárního okruhu, ve kterých jsou zařazeny ionexové filtry a lapače ionexů. V práci je uveden přehled vhodných metod svařování tenkých filtračních plechů z austenitických materiálů k sběrné trubce, včetně vhodné technologie výroby úzkých štěrbin v tomto plechu. Cílem práce je navrhnout vhodné provedení oprav a výrobu náhradních dílů pro různé stupně poškození vnitřní vestavby filtrů. Součástí je i ověření jakosti svarových spojů na zkušebním vzorku s výsledky provedených zkoušek, jejich vyhodnocení a ekonomické hodnocení oprav ionexových filtrů.
|
|
Microstructure and Properties of Nanocrystalline Hard Coatings and Thin Film Nanocomposites
Dopita, Milan
Tato práce je věnována studiu mikrostruktury a vlastností M-Al-(Si-)N nanokrystalických tvrdých povlaků a nanokompozitních tenkých vrstev, deponovaných napařováním v katodovém oblouku (CAE), kombinací metod elektronové mikroanalýzy, difrakce rentgenového záření, transmisní elektronové mikroskopie s vysokým rozlišením (TEM / HRTEM) a měřením mikrotvrdosti. Šest sérií vzorků, lišících se typem přechodového kovu (Cr, Ti and Zr) a množstvím Al a Si v závislosti na pozici substrátu vzhledem ke katodám, bylo deponováno CAE procesem v depozičním přístroji π-80 vyrobeném firmou Platit AG. Ve všech studovaných povlacích byly určeny základní mikrostrukturní parametry, jmenovitě chemické a fázové složení, zbytková napětí, preferenční orientace krystalitů, velikost koherentně difraktujících domén a vzájemná desorientace krystalitů. Odvozené mikrostrukturní parametry byly korelovány s mechanickými vlastnostmi vrstev - mikrotvrdostí. Následně byl vytvořen mikrostrukturní model vývoje nanokrystalických tvrdých povlaků a nanokompozitních tenkých vrstev. V závislosti na chemickém složení vzorků existují ve studovaných vrstvách tři oblasti lišící se fázovým složením. Ve vzorcích s nejvyšší koncentrací přechodového kovu existuje pouze jediná - kubická plošně centrovaná (kpc) M1-x-yAlxSiyN fáze. Se vzrůstající...
|
|
Vliv konečného počtu lopatek u hydrodynamických čerpadel
Duda, Petr ; Archalous, Jakub (oponent) ; Klas, Roman (vedoucí práce)
Bakalářská práce obsahuje základní informace o hydrodynamických čerpadlech. Zabývá se popisem měrné energie pro nekonečný počet velmi tenkých lopatek a následnou korekcí na konečný počet lopatek. Část práce je věnována úkazům vznikajících v mezilopatkovém kanále a jejich vlivu na měrnou energii čerpadla. Jsou zde objasněny výpočty korekčních faktorů dle jednotlivých autorů a na závěr jsou provedeny korekce u třech reálných oběžných kol se srovnáním jednotlivých metod.
|
|
Selektivní růst gallium-nitridových tenkých vrstev na substráty pokryté maskou z pyrolyzovaného rezistu
Novák, Tomáš ; Kostelník, Petr (oponent) ; Voborný, Stanislav (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá depozicí tenkých vrstev GaN aselektivním růstem Ga a GaN s využitím masek z pyrolyzovaného rezistu. Na křemíkových substrátech byly elektronovou litografií a pyrolýzou rezistu připraveny uhlíkové masky. Na substráty s maskami bylo poté metodou molekulární svazkové epitaxe (MBE) nanášeno Ga a GaN. Při depozicích Ga bylo dosaženo selektivní tvorby Ga ostrůvků, což bylo využito k růstu GaN krystalků metodou pulsní depozice. Experimenty také ukázaly, že přímou depozicí GaN metodou MBE lze na substráty s uhlíkovými maskami selektivně nanášet vrstvy GaN, kdy vrstva roste pouze v oblastech mimo masku. Výsledky vysvětluje zvýšená povrchová difúze gallia na povrchu uhlíkových masek.
|
|
Depozice Ga a GaN ultratenkých vrstev na grafenový substrát
Dvořák, Martin ; Nebojsa, Alois (oponent) ; Mach, Jindřich (vedoucí práce)
Tato diplomová práce se zabývá přípravou grafenových vrstev pro depozice ultratenkých vrstev gallia a jeho nitridu. Grafenové substráty jsou připravovány metodou chemické depozice z plynné fáze ve vysokoteplotním reaktoru postaveném na Ústavu Fyzikální inženýrství. Po přenosu grafenových vrstev na křemíkové substráty, byla provedena série chemických a tepelných čištění povrchu grafenu. Takto připravené vzorky jsou vhodné pro studium růst ultratenkých vrstev Ga a GaN. Růst Ga a GaN byl realizován v prostředí ultravysokého vakua metodami molekulární svazkové epitaxe pro depozici gallia, respektive pomocí iontového zdroje pro nitridaci. Výsledné ultratenké vrstvy byly studovány metodami rentgenové fotospektroskopie, mikroskopií atomárních sil a rastrovacím elektronovým mikroskopem.
|
|
Příprava difuzních bariér s využitím technologie chemické depozice
Foltýnek, Jaroslav ; Němec, Karel (oponent) ; Čelko, Ladislav (vedoucí práce)
Tato diplomová práce se zabývá problematikou přípravy difuzních bariér technologií chemické depozice plynné fáze z práškových směsí. V teoretické části práce je řešena problematika přípravy difuzních vrstev pro tři nejběžněji používané způsoby přípravy, tj. CVD z práškových směsí, plynné a kapalné fáze. V praktické části práce je pak řešena problematika přípravy difuzních vrstev na superslitině Inconel 713LC metodou aluminizace z šesti různých práškových směsí probíhající za teploty 800°C po dobu 0, 2 a 5 hodin.
|
|
Souhrnný report výsledků smluvního výzkumu mezi FZU AV ČR, v.v. i. a HVM Plasma s.r.o. za rok 2016
Mates, Tomáš ; Fejfar, Antonín ; Ledinský, Martin ; Vetushka, Aliaksi ; Pikna, Peter ; Bauerová, Pavla
Několika diagnostickými metodami byly zkoumány vzorky ochranných vrstev na bázi DLC (Diamond-like-Carbon) na různých substrátech (testovací tělíska i reálné součástky). Pomocí Ramanovské spektroskopie byly vyhodnocovány vazby ve vzorcích pro bližší určení strukturních variací a povrchových modifikací, a to jak pro čerstvě připravené vzorky, tak zejména pro vzorky které prošly různými zátěžovými testy.\nSkenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) byla zkoumána povrchová struktura vrstev v různých místech vzorků a vyhledávána vhodná testovací místa pro následnou analýzu pomocí Mikroskopu atomárních sil (AFM). Mikroskopem AFM ve speciálních režimech byly měřeny mapy lokálních mechanických vlastností (tření, adheze hrotu, disipace energie, atd.). Na vybraném vzorku byla metodou Focussed Ion Beam (FIB) analyzována struktura průřezu vzorku a dále bylo zdokumentováno prvkové složení v různých tloušťkách vrstvy metodou Energy-dispersive X-ray Spectroscopy (EDS).\n
|
|
Návrh a realizace zobrazovacího reflektometru 2. generace a jeho aplikace v optické analýze tenkých vrstev
Vodák, Jiří ; Držík,, Milan (oponent) ; Klapetek, Petr (oponent) ; Ohlídal, Miloslav (vedoucí práce)
Práce se zabývá technikou zobrazovací spektroskopické reflektometrie vyvíjenou na Ústavu fyzikálního inženýrství Vysokého učení technického v Brně. Jedná se o techniku vhodnou k charakterizaci vzorků neuniformních podél jejich povrchu. Technika je primárně používána k optické charakterizaci tenkých vrstev. V úvodní části práce jsou popsány základní fyzikální principy, na kterých je technika založena. Dále je popsána metodika získávání měřených dat a základní popis metod zpracování těchto dat. Je rovněž popsán základní koncept zobrazovacího spektroskopického reflektometru včetně rozboru různých variant jednotlivých částí přístroje. V hlavní části se práce zabývá popisem dvou realizovaných přístrojů včetně popisu některých kroků při vývoji těchto přístrojů. Jsou také prezentovány výsledky měření provedených se zmíněnými přístroji. V závěru práce je pak nastíněn a odůvodněn směr vývoje techniky zobrazovací spektroskopické reflektometrie k zobrazovací spektroskopické elipsometrii.
|
host ::
