|
| |
|
|
Substrate-controlled nucleation of the magnetic phase transition in nanostructures
Hajduček, Jan ; Procházka, Pavel (referee) ; Uhlíř, Vojtěch (advisor)
Properties of the phase transition in iron-rhodium (FeRh) from the antiferromagnetic (AF) to ferromagnetic phase (FM) are largely affected by lattice defects in FeRh. Epitaxial layers of FeRh are grown on monocrystalline MgO (001) substrates. Surface atomic terraces of the substrate can induce defects in epitaxial layers and modify electronic and magnetic properties. In this thesis the effect of surface atomic terraces on the width and the hysteresis of the metamagnetic phase transition in FeRh thin layers and nanostructures is studied. The amount and character of defects in FeRh are also affected by mutual orientation of terraces and FeRh nanowires, which changes the number of discrete jumps in FM-AF transition. The nanowires have been fabricated by electron-beam lithography. FM domains in in FeRh have been observed by magnetic force microscopy and electrical transport properties of differently oriented nanowires have been studied by 2-probe measurements. Higher density of surface atomic terraces significantly increases the number of discrete jumps in the FM-AF transition.
|
|
| |
|
|
Graphene doping by low-energy electrons
Stará, Veronika ; Kunc, Jan (referee) ; Čechal, Jan (advisor)
Tato diplomová práce se zabývá dotováním grafenu nízkoenergiovými elektrony. Na křemíkový substrát pokrytý vrstvou SiO2 jsou pomocí litograficky vyrobené masky nadeponované kovové kontakty z titanu a zlata. Grafen vyrobený pomocí metody depozice z plynné fáze je přenesen na substrát a slouží jako vodivé spojení kovových elektrod, které vytvářejí kolektor a emitor. Na křemík je ze spodu přivedeno napětí, které tak vytváří spodní hradlo. Takto vytvořený grafenový tranzistor je ozařován nízkoenergiovými elektrony, které mění dotování grafenu. Z polohy maxima v závislosti odporu grafenu na hradlovém napětí lze vyčíst typ dotování. Toto maximum udává napětí, při kterém Fermiho meze grafenu prochází Diracovým bodem v pásové struktuře grafenu. Velikost hradlového napětí, primární energie elektronového svazku a proud svazku jsou tři parametry, které mají velký vliv na změny dotování. Při ozařování transistoru dochází ke změně typu dotování právě tehdy, když odpor grafenu v závislosti na hradlovém napětí dosáhne maxima. Vývoj této změny je zkoumán pro různé energie a proudy primárního svazku v závislosti na hradlovém napětí i v čase. Typ dotování je také prozkoumán při zastavení ozařování v různých fázích smyčky hradlového napětí. Dopování grafenu nízkoenergiovými elektrony je popsáno v teoretickém modelu.
|
|
|
Low power MEMS heating membrane
Svatoš, Vojtěch ; Pekárek, Jan (referee) ; Hubálek, Jaromír (advisor)
The aim of this thesis is to create the MEMS heating membrane with low power consumption. This work includes the main of design and fabrication processes of these heating elements. It was decided that the final sample will be created as suspended membrane type of the structure. It the end of the thesis there is detailed overview of the whole fabrication processes used for fabrication of final samples and the experiment to prove the resistance due to thermal stress.
|
|
|
Nanoelectrodes for biophysical measurements
Márik, Marian ; Hrdý, Radim (referee) ; Hubálek, Jaromír (advisor)
The aim of the project is formation of nanoelectrodes on the silicon wafer surface by thin-film techniques combined with lithography and nanotechniques developed in LabSensNano. Project is engaged in lithography and in preparation of silicon wafers. Furthermore is proposed a brief proposal of electrodes, proposal of realization and current state of the experiment.
|
|
|
Properties study of periodic gratings prepared by electron-beam lithography
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (referee) ; Matějka, Milan (advisor)
This study examines the process of the relief periodic structures creation by way of electron beam lithography. It describes how to design these structures by means of a computer and subsequently how to create them by electron beam lithograph. Moreover, this study explores the methods by which these structures are measured and evaluated. These methods are used to measure and evaulate binary periodic gratings and thanks to obtained data it can be determined the dependence of the depth of grating on its period. The study also contains measurement of diffraction efficiency on manufactured gratings and comparison of the dependence of its diffraction efficiency on the depth of grating.
|
|
| |
|
| |
|
| |
guest ::
