Original title: SMV-2024-02: Metrologie reliéfních optických difrakčních prvků
Translated title: SMV-2024-02: Relief optical diffractive elements metrology
Authors: Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav
Document type: Research reports
Year: 2024
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Výzkum v oblasti metrologie reliéfních optických mikrostruktur připravených nanoimprint litografií. Pomocí elektronové rastrovací mikroskopie (SEM) a konfokální laserové rastrovací mikroskopie (CLSM) byla zkoumána kvalita přenosu mikrostruktury ze silikonové předlohy do UV tvrditelného polymeru. Z nanoimprint replik optických mikrostruktur se pomocí výbrusů připravily řezy mikrostruktur a ty posloužily k měření reziduální vrstvy laku pod mikrostrukturami pomocí CLSM. Research in the field of metrology for relief optical elements fabricated using nanoimprint lithography. The methods of electron scanning microscopy (SEM) and confocal laser scanning microscopy (CLSM) were used to evaluate the accuracy of structure transfer from a silicon mold into a UV curable polymer. Cross-section of nanoimprint replicas were further inspected to measure the residual thickness of the UV polymer beneath the microstructure using CLSM method.
Keywords: confocal laser scanning microscopy; cross-section analysis; electron scanning microscopy; nanoimprint lithography; relief optical elements

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: https://hdl.handle.net/11104/0359776

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-668592


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports