Název: SMV-2024-02: Metrologie reliéfních optických difrakčních prvků
Překlad názvu: SMV-2024-02: Relief optical diffractive elements metrology
Autoři: Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2024
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
Výzkum v oblasti metrologie reliéfních optických mikrostruktur připravených nanoimprint litografií. Pomocí elektronové rastrovací mikroskopie (SEM) a konfokální laserové rastrovací mikroskopie (CLSM) byla zkoumána kvalita přenosu mikrostruktury ze silikonové předlohy do UV tvrditelného polymeru. Z nanoimprint replik optických mikrostruktur se pomocí výbrusů připravily řezy mikrostruktur a ty posloužily k měření reziduální vrstvy laku pod mikrostrukturami pomocí CLSM. Research in the field of metrology for relief optical elements fabricated using nanoimprint lithography. The methods of electron scanning microscopy (SEM) and confocal laser scanning microscopy (CLSM) were used to evaluate the accuracy of structure transfer from a silicon mold into a UV curable polymer. Cross-section of nanoimprint replicas were further inspected to measure the residual thickness of the UV polymer beneath the microstructure using CLSM method.
Klíčová slova: confocal laser scanning microscopy; cross-section analysis; electron scanning microscopy; nanoimprint lithography; relief optical elements

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0359776

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-668592