Název: Chemická struktura tenkých vrstev na bázi křemíku
Překlad názvu: Chemical structure of silicon-based thin films
Autoři: Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2019
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstrakt: [cze] [eng]

Klíčová slova: infračervená spektroskopie s Fourierovou transformací (FTIR); PECVD; plazmová polymerace; Tenké vrstvy; tetravinylsilan.; Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR); PECVD; plasma polymerisation; tetravinylsilane.; Thin films

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/173398

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-580510


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce
 Záznam vytvořen dne 2024-04-02, naposledy upraven 2024-04-03.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet