Název: Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Překlad názvu: The contrast curves determination for e-beam writer with Gaussian beam
Autoři: Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2014
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]

Klíčová slova: Elektronová litografie; elektronový litograf; křivka citlivosti rezistu; PMMA.; Electron-beam lithography; Electron-beam writer; PMMA; resist contrast curve

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/33956

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-577838


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce
 Záznam vytvořen dne 2024-04-02, naposledy upraven 2024-04-03.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet