Original title: Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů
Translated title: Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing
Authors: Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Mikel, Břetislav ; Helán, R. ; Urban, F.
Document type: Papers
Conference/Event: LASER62, Lednice (CZ), 20221109
Year: 2022
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách. This contribution deals with the fabrication of binary phase masks using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for the manufacturing of optical fiber sensors. The research was focused on the adjusting of gratings depth because of suppression of various undesirable diffraction orders for set grating pitch and its duty cycle. Theoretical simulations were compared with measurement of fabricated gratings.
Keywords: Binary phase gratings; diffraction grating; e-beam lithography; optical fiber sensors; reactive ion etching
Project no.: FW01010379
Funding provider: GA TA ČR
Host item entry: LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62, ISBN 978-80-87441-30-5

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: https://hdl.handle.net/11104/0339029

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-520547


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Conference materials > Papers