Název: Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů
Překlad názvu: Binary phase masks fabrication using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for optical fiber sensors manufacturing
Autoři: Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Mikel, Břetislav ; Helán, R. ; Urban, F.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: LASER62, Lednice (CZ), 20221109
Rok: 2022
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách. This contribution deals with the fabrication of binary phase masks using the method of e-beam lithography and reactive ion etching for the manufacturing of optical fiber sensors. The research was focused on the adjusting of gratings depth because of suppression of various undesirable diffraction orders for set grating pitch and its duty cycle. Theoretical simulations were compared with measurement of fabricated gratings.
Klíčová slova: Binary phase gratings; diffraction grating; e-beam lithography; optical fiber sensors; reactive ion etching
Číslo projektu: FW01010379
Poskytovatel projektu: GA TA ČR
Zdrojový dokument: LA62. Sborník příspěvků multioborové konference LASER62, ISBN 978-80-87441-30-5

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0339029

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-520547


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference