Název:
Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
Překlad názvu:
Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods\n
Autoři:
Fejfar, Antonín Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022, Bítov (CZ), 20220530
Rok:
2022
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Tenké vrstvy jsou klíčovou komponentou prakticky všech moderních fotovoltaických článků pro využití sluneční energie. Články využívají tenké vrstvy pro dosažení optimálního záchytu světla, pro rozdělení a sběr fotogenerovaných nábojů i pro pasivaci rozhraní či přímo jako vrstvy absorbující fotony slunečního svitu. Každoročně jsou tak nanášeny vrstvy o celkové ploše řádu mnoha stovek kilometrů čtverečních, a to především s využitím plazmochemických technologií.Thin films are key components for practically all of contemporary photovoltaic cells for solar energy utilization. Cells use thin films for optimizing light trapping, for selecting and collection of photogenerated charges and interface passivation or as absorber layers. Each year several hundreds of square kilometers of thin films are deposited mainly by plasma chemistry methods.
Klíčová slova:
deposition; photovoltaics; plasma chemistry; thin films Číslo projektu: LM2018110 (CEP), CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_026/0008382, EF16_026/0008382 Poskytovatel projektu: GA MŠk, Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy - GA MŠk, GA MŠk Zdrojový dokument: Zpravodaj ČVS, ISSN 1213-2705
Instituce: Fyzikální ústav AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0338552