Název: Thermal stability of Ti/Ni multilayer thin films
Autoři: Václavík, R. ; Zábranský, L. ; Souček, P. ; Sťahel, P. ; Buršík, Jiří ; Fořt, Tomáš ; Buršíková, V.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Conference on Nanomaterials - Research & Application /12./, Brno (CZ), 20201021
Rok: 2021
Jazyk: eng
Abstrakt: In this work, thermal stability and mechanical properties of Ti/Ni multilayer thin films were studied. The multilayer thin films were synthesised by alternately depositing Ti and Ni layers using magnetron sputtering. The thickness of constituent layers of Ti and Ni varied from 1.7 nm to 10 nm, and one coating was deposited by simultaneous sputtering of both targets. Single crystalline silicon was used as a substrate. The effects of thermal treatment on the mechanical properties were studied using nanoindentation and discussed in relation to microstructure evaluated by X-ray diffraction. Annealing was carried out under low-pressure conditions for 2 hours in the range of 100-800 degrees C.
Klíčová slova: annealing; magnetron sputtering; multilayers; nanoindentation; Ti/Ni
Číslo projektu: GA20-11321S (CEP)
Poskytovatel projektu: GA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings, ISBN 978-80-87294-98-7, ISSN 2694-930X
Poznámka: Související webová stránka: https://www.confer.cz/nanocon/2020/3776-mechanical-properties-of-multilayers-characterised-using-advanced-methods

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0325484

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-508292


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference