Název: Recent trends in low voltage scanning electron microscopy for the imaging of semiconductor devices
Autoři: Hutař, Otakar ; Müllerová, Ilona ; Romanovský, Vladimír ; Zobačová, Jitka
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: EMAS 2000 - Regional Workshop on Electron Probe Microanalysis Today /4./, Třešť (CZ), 2000-05-17 / 2000-05-20
Rok: 2000
Jazyk: eng
Abstrakt: The technology of semiconductor devices microfabrication becomes presently the main consumer of imaging methods by means of low voltage scanning electron microscopy (LVSEM). The main tasks are the inspection after lithograophic masking and etching processes, including measurements of critical linewidth dimension (CD), and the imaging of three dimensional high aspect ratio structures.
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2065902 (CEP), IAA1065901 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA AV ČR
Zdrojový dokument: Proceedings EMAS 2000 - 4th Regional Workshop on Electron Probe Microanalysis Today - Practical Aspects, ISBN 80-01-02176-9
Poznámka: Související webová stránka: mailto:ota@isibrno.cz

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0100887

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-29484


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
 Záznam vytvořen dne 2011-07-01, naposledy upraven 2021-11-24.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet