Original title: SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury
Translated title: SMV-2016-03: Precise relief structures
Authors: Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Šerý, Mojmír
Document type: Research reports
Year: 2016
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik. Research and development in the field of precise relief structures using electron beam lithography and other ultra-precise micro manufacturing techniques.
Keywords: e-beam lithography; microlithography; relief structure; silicon etching

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0266242

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-262483


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports