Název: Amplitudově fázová vortexová maska
Překlad názvu: An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask
Autoři: Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Urbánek, Michal ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: LASER 55, Třešť (CZ), 2015-10-21 / 2015-10-23
Rok: 2015
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]

Klíčová slova: e-beam lithography; photo mask; vortex beam
Číslo projektu: LO1212 (CEP), ED0017/01/01, TE01020233 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55, ISBN 978-80-87441-16-9

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0251045

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-200879


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
 Záznam vytvořen dne 2015-11-04, naposledy upraven 2021-11-24.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet