Název:
Amplitudově fázová vortexová maska
Překlad názvu:
An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask
Autoři:
Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Urbánek, Michal ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: LASER 55, Třešť (CZ), 2015-10-21 / 2015-10-23
Rok:
2015
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Problematiku fázových masek jsme prezentovali již na předchozích ročnících této konference: počítačem generované hologramy a fázové masky pro přípravu vláken s Braggovými mřížkami. V tomto příspěvku se zaměříme na prezentaci výsledků dosažených při přípravě skleněné masky pomocí elektronové litografie, která na jedné podložce kombinuje dvě části; amplitudovou část a fázovou část vortexové masky. Obě dvě části jsou připraveny elektronovou litografií. Popis funkčních optických vlastností realizované masky by byl značně nad rámec tohoto příspěvku, a proto se připravuje k samostatné publikaci.The issue of phase photo masks was presented in previous editions of this conference: computer-generated holograms and phase masks to produce fiber Bragg gratings. In this contribution, we will focus on the presentation of results achieved in the preparation of glass masks combining two parts on one substrate: the amplitude portion and the phase portion of a vortex photo mask. Both portions are prepared by electron-beam lithography.
Klíčová slova:
e-beam lithography; photo mask; vortex beam Číslo projektu: LO1212 (CEP), ED0017/01/01, TE01020233 (CEP) Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR Zdrojový dokument: Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55, ISBN 978-80-87441-16-9
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0251045