host ::
| Hlavní stránka > Konferenční materiály > Příspěvky z konference > Monte-Carlo simulation of proximity effect in e-beam lithography |
Název:
Monte-Carlo simulation of proximity effect in e-beam lithography
Autoři: Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2013. International Conference /5./, Brno (CZ), 2013-10-16 / 2013-10-18
Rok: 2013
Jazyk: eng
Abstrakt: E–beam lithography is the most used pattern generation technique for academic and research prototyping. During this patterning by e–beam into resist layer, several effects occur which change the resolution of intended patterns. Proximity effect is the dominant one which causes that patterning areas adjacent to the beam incidence point are exposed due to electron scattering effects in solid state. This contribution deals with Monte Carlo simulation of proximity effect for various accelerating beam voltage (15 kV, 50 kV, 100 kV), typically used in e–beam writers. Proximity effect simulation were carried out in free software Casino and commercial software MCS Control Center, where each of electron trajectory can be simulated (modeled). The radial density of absorbed energy is calculated for PMMA resist with various settings of resist thickness and substrate material. At the end, coefficients of proximity effect function were calculated for beam energy of 15 keV, 50 keV and 100 keV which is desirable for proximity effect correction.
Klíčová slova: e–beam lithography; Monte–Carlo; proximity effect simulation
Číslo projektu: ED0017/01/01, EE.2.3.20.0103, TE01020233 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2013. 5th International Conference Proceedings, ISBN 978-80-87294-44-4
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0234836
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-174845
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Autoři: Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2013. International Conference /5./, Brno (CZ), 2013-10-16 / 2013-10-18
Rok: 2013
Jazyk: eng
Abstrakt: E–beam lithography is the most used pattern generation technique for academic and research prototyping. During this patterning by e–beam into resist layer, several effects occur which change the resolution of intended patterns. Proximity effect is the dominant one which causes that patterning areas adjacent to the beam incidence point are exposed due to electron scattering effects in solid state. This contribution deals with Monte Carlo simulation of proximity effect for various accelerating beam voltage (15 kV, 50 kV, 100 kV), typically used in e–beam writers. Proximity effect simulation were carried out in free software Casino and commercial software MCS Control Center, where each of electron trajectory can be simulated (modeled). The radial density of absorbed energy is calculated for PMMA resist with various settings of resist thickness and substrate material. At the end, coefficients of proximity effect function were calculated for beam energy of 15 keV, 50 keV and 100 keV which is desirable for proximity effect correction.
Klíčová slova: e–beam lithography; Monte–Carlo; proximity effect simulation
Číslo projektu: ED0017/01/01, EE.2.3.20.0103, TE01020233 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA MŠk, GA MŠk, GA TA ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2013. 5th International Conference Proceedings, ISBN 978-80-87294-44-4
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0234836
Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-174845
Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
Záznam vytvořen dne 2014-07-24, naposledy upraven 2021-11-24.