Název: Enhanced growth rate of diamond films at low temperature in focused microwave plasma system
Autoři: Babčenko, Oleg ; Bydžovská, Irena ; Fait, Jan ; Shagieva, Ekaterina ; Ondič, Lukáš ; Kromka, Alexander
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: 14th International Conference on Nanomaterials - Research & Application - NANOCON 2022, Brno (CZ), 20221019
Rok: 2023
Jazyk: eng
Abstrakt: The low temperature (< 500 °C) diamond film deposition on fused silica in two different focused microwave plasma systems, i.e. a multimode clamshell cavity (MCC) and a rotational ellipsoid cavity (REC) reactor, was investigated. During the experiments, the methane to hydrogen ratio, in the hydrogen-rich process gas mixture, varied from 1 % to 15 % for MCC and from 1 % to 9 % for REC. The grown films were analyzed by scanning electron microscopy and Raman shift measurements. The outcomes of the study and enhanced diamond growth at low temperatures is advantageous for overcoating of fused silica as well as thermally sensitive substrates, e.g. optical elements, photonic crystals, sensors, etc.
Klíčová slova: focused plasma; high growth rate; low non-diamond content; low temperature deposition; well-faceted diamonds
Číslo projektu: LUASK22147, LQ100102001 (CEP), CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, EF16_019/0000760
Poskytovatel projektu: GA MŠk, AV ČR, OP VVV - SOLID21, GA MŠk
Zdrojový dokument: NANOCON 2022 Conference Proceedings, ISBN 978-80-88365-09-9, ISSN 2694-930X
Poznámka: Související webová stránka: https://www.confer.cz/nanocon/2022/4587-enhanced-growth-rate-of-diamond-films-at-low-temperature-in-focused-microwave-plasma-system

Instituce: Fyzikální ústav AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0342132

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-521865


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Fyzikální ústav
Konferenční materiály > Příspěvky z konference