Název: Reactive ion etching of polystyrene microspheres
Autoři: Domonkos, Mária ; Ižák, Tibor ; Štolcová, L. ; Proška, J. ; Kromka, Alexander
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013, Praha (CZ), 2013-06-12 / 2013-06-12
Rok: 2013
Jazyk: eng
Abstrakt: This article gives a brief insight also into the principle of the nanosphere lithography and various plasma systems focusing on their properties and applicability for a subsequent topographical modification of surfaces prepared by NS lithography. In the experimental part of this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres is used as the primary template. The polystyrene microspheres (PM) were processed in capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) RIE system. The influence of process conditions on the PM geometry is systematically studied by scanning electron microscopy. The process conditions are controlled by varying radiofrequency power, total pressure, composition of the gas mixture (ratio O2:CF4) and process duration.
Klíčová slova: Langmuir-Blodgett monolayers; nanosphere lithography; polystyrene microspheres; reactive ion etching
Číslo projektu: GBP108/12/G108 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA ČR
Zdrojový dokument: Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013, ISBN 978-80-01-05334-8

Instituce: Fyzikální ústav AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0231433

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-170494


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Fyzikální ústav
Konferenční materiály > Příspěvky z konference