Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 103 záznamů.  předchozí11 - 20dalšíkonec  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
SMV-2023-05: DI2023
Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Košelová, Zuzana ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Knápek, Alexandr
Výzkum se soustředí na zkoumání a vývoj precizních kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou koncipovány pro kalibraci parametrů ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření kvality zobrazovaní danou mikroskopickou technikou jako je celkové zvětšení, velikost zorného, rozlišení, deformace zobrazení v laterárních osách a další geometrická zkreslení. Pro přípravku jsou využívány precizní litografické techniky a další techniky vycházející z technologií zpracování křemíku z polovodičového průmyslu. Vývoj byl zaměřen na optimalizaci záznamu leptacích masek před přenosem obrazu do monokrystalické křemíkové podložky.
Podpora prodeje v rámci ON Trade marketingu
Kostková, Karolína ; Krátký, Stanislav (oponent) ; Mráček, Pavel (vedoucí práce)
Bakalářská práce se zabývá rozborem jednotlivých marketingových aktivit společnosti Plzeňský Prazdroj, a.s. se zaměřením na značku Birell v ON Trade trhu. V bakalářské práci jsou definovány čtyři části. První část se zaobírá teorií, kde jsou vymezeny základy marketingu, značka a komunikace v místě prodeje. Druhá část vymezuje společnost Plzeňský Prazdroj, značku Birell a její konkurenci. Ve třetí části jsou popisovány a analyzovány jednotlivé aktivity na trhu a jejich vyhodnocení. Ve čtvrté části jsou popsány návrhy aktivit pro následující rok.
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů
Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Mikel, Břetislav ; Helán, R. ; Urban, F.
Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.
SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav
Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Pro přípravu preparátů jsou vyvíjeny mikro litografické techniky opracování křemíku a další související technologické postupy.
SMV-2022-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické, resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements
Horáček, Miroslav ; Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Pirunčík, J. ; Aubrecht, I. ; Kotrlý, M. ; Kolařík, Vladimír
Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 diffraction structures binary, tertiary, quaternary and blazed gratings (period range 400 nm 20,000 nm) represents a cross-section throughout technological steps mastering, galvanic replication and embossing. Electron-beam writing technology with Gaussian beam and electron energy of 100 keV, with very small forward scattering of high energy electrons and with the possibilities to create a linear grating with the minimal period of 100 nm, was used to create the master. An important advantage of high-resolution electron-beam lithography is its substantial flexibility in combining possible planar structures with significantly different parameters, such as very dense and relatively shallow structures together with deep structures (approx. 10 microns) with precise shapes (micro-lenses or Fresnel structures). For protection of documents and valuables, interesting results are induced with planar optical structures consisting of non-periodic arrangements, which are characterized by high robustness to counterfeiting and imitation. While the origination process is available for grating period down to 100 nm, the mass replication technology appears to be a bottleneck of the entire technological process. Measurement of topology and profiles of the structures by atomic forces microscope and documenting the quality of technological process of the three steps of replication of planar optically variable elements was performed for all 36 structure types of sampler.
Vláknové mřížky pro senzorické účely a návrh nelineárních struktur
Helán, R. ; Šifta, R. ; Urban, F. ; Urban jr., F. ; Mikel, Břetislav ; Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír
Článek je zaměřen na výzkum a vývoj optických nelineárních FBG struktur pomocí tzv. nelineárního chirpu, díky kterému dochází k vytvoření požadovaného typu filtru. Takto vytvořené nelineární struktury mohou být použity pro tvarování spektra zdroje optického záření určeného pro vyhodnocování senzorů založených na FBG.
Studium vlivu geometrických parametrů fázových binárních mřížek na jejich optickou odezvu pro potřeby přípravy optických vláknových senzorů
Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Mikel, Břetislav ; Helán, R. ; Urban, F.
Pro expozici do optických vláken přes fázovou mřížku je nutné velmi dobře naladit geometrické parametry dané mřížky. V tomto příspěvku se zabýváme studiem vlivu periody mřížky, střídy mřížky, hloubky mřížky a polarizace dopadajícího laserového svazku na účinnost difrakčních řádů. Vhodně naladěná mřížka generuje difrakční řády s požadovanou účinností, čímž je zaručen vznik žádaného motivu v exponovaném optickém vlákně.
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav
Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání.
SMV-2021-07: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 103 záznamů.   předchozí11 - 20dalšíkonec  přejít na záznam:
Viz též: podobná jména autorů
4 Krátký, Štěpán
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.