Název: SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
Překlad názvu: SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern
Autoři: Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2021
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání. The field of development concerns the realization of precise relief structures using electron lithography and reactive ion etching. Development of technology for the creation of a precise phase filter of the plane-parallel type for optical applications by modification of quartz substrates by means of precise dry etching.
Klíčová slova: e-beam lithography; optics; reactive ion etching

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0325852

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-508323


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Zprávy > Výzkumné zprávy