Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 16 záznamů.  předchozí11 - 16  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Kombinovaná elektronová litografie
Krátký, Stanislav ; Mikulík, Petr (oponent) ; Škereň,, Marek (oponent) ; Kolařík, Vladimír (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá reliéfní elektronovou litografií a přípravou difrakčních optických elementů. Řešena jsou tři témata. Prvním tématem je reliéfní kombinovaná elektronová litografie, kde je cílem zkombinovat expozice dvou systémů s rozdílnou energií elektronů primárního svazku. Kombinovaná technika vede k efektivnějšímu využití jednotlivých systémů, kdy se různé struktury lépe připravují jinými energiemi elektronů v primárním svazku. Dalším tématem je optimalizace hranic objektů exponovaných struktur, které jsou definovány obrazovými vstupy. Zkoumá se vliv této optimalizace na rychlost přípravy expozičních dat, na dobu expozice a na optickou odezvu testovaných struktur. Třetím tématem je zkoumání možností přípravy hlubokých víceúrovňových difrakčních optických elementů do bloků plexiskla, jako náhrada soustavy rezist/substrát. S tím se pojí nový způsob zápisu, který minimalizuje teplotní zátěž na plexisklo během expozice elektronovým svazkem a zároveň zvyšuje homogenitu výsledného motivu. V této části byla dále navržena metoda výpočtu expozičních dávek specifických víceúrovňových struktur vycházející z existujících modelů pro výpočet korekcí jevu blízkosti, která minimalizuje čas výpočtu expozičních dávek.
Skin efekt ve vysokootáčkových elektrických strojích.
Klíma, Petr ; Bárta, Jan (oponent) ; Mach, Martin (vedoucí práce)
Tato diplomová práce se zabývá potlačením vlivu skin a proximity efektu ve vysokootáčkových strojích. V první části jsou shrnuté obecné poznatky o vysokootáčkových strojích. Druhá část je věnována principu a možným potlačením důsledků způsobených skin a proximity efektem. Ve třetí části jsou ukázány výsledky simulací vytvořených modelů pro synchronní stroj s permanentními magnety. Na výsledcích těchto simulací je ukázán vliv skin a proximity efektu. Dále jsou navržena konstrukční opatření na omezení těchto a dalších nežádoucích jevů, aby bylo dosaženo co největší účinnosti.
Optimal fill factor of slot with respect of used insulation of motor and duty
Samek, Josef ; Ondrůšek, Čestmír (oponent) ; Huzlík, Rostislav (vedoucí práce)
Thesis deals with random wound stator - conductors’ distribution in stator slot and its influence on proximity effect (non-uniformity of current distribution) in conductors near air gap. Also circulating currents between parallel strands of winding are assumed, same as influence of rotor permanent magnets magnetic field. Conductor level thermal simulation is conducted according to used insulation system of machine and current distribution. Chapter 1 – 3 deals with theory, subchapter 4.3 investigates thermal properties of used materials for thermal simulations and chapters 4 and 5 presents work itself – simulation of given machine (current distribution in conductors) in Ansys Maxwell and thermal simulation in FEMM and Ansys 16.0.
Optimalizace tvaru paralelních proudovodných drah odpojovače
Görig, Tomáš ; Tůma, Jan (oponent) ; Dohnal, Petr (vedoucí práce)
Tato diplomová práce se zabývá vyšetřením stávajícího tvaru proudovodné dráhy odpojovače. V té je nerovnoměrně rozložen protékající proud a to způsobuje nadměrné oteplování právě ve více namáhaným částech. Následně je navrhnuto několik možností optimalizace proudovodné dráhy. Tyto možnosti jsou ověřeny simulací a zadavateli práce je doporučeno nejvýhodnější řešení.
Analýza nadproudové spouště pomocí MKP
Makki, Zbyněk ; Augusta, Zbyněk (oponent) ; Valenta, Jiří (vedoucí práce)
Cílem projektu bylo připravit zadaný model proudovodné dráhy v prostředí programu Solidworks, aby bylo možné tuto proudovodnou dráhu simulovat v prostředí programu Ansys, kde se podle zadaných podmínek provedl výpočet rozložení hustoty proudu, úbytků napětí a výpočet tepelného úbytku na zadané proudovodné dráze. Získané výsledky jsou analyzovány v závěru této práce.
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Král, Stanislav ; Dvořáková, Marie
Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 16 záznamů.   předchozí11 - 16  přejít na záznam:
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.