|
|
PDS 2004 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronové optiky
Müllerová, Ilona
Elektronová mikroskopie a optika má v Brně mnohaletou tradici a v současné době se v Brně významně rozšiřuje jak vývoj tak, i výroba elektronových mikroskopů. Vzniká tak akutní potřeba vychovat další generace odborníků. Zkušenost dostatečně prokázala, že má-li být průmysl elektronových mikroskopů úspěšný, musí v něm být přítomno vysoké procento pracovníků s vědeckým vzděláním a vědeckým přístupem k problémům. Toto jsou příčiny, proč oddělení elektronové optiky Ústavu přístrojové techniky přijímá do svých řad studenty postgraduálního doktorandského studia v počtu téměř se rovnajícím počtu vědeckých pracovníků. Oborová rada oboru elektronová optika ÚPT se v roce 2002 usnesla pořádat každoroční Seminář doktorandů, na němž budou ústně prezentovány práce studentů PDS, nacházejících se ve všech fázích jejich studia. Navíc se rozhodla tyto práce v podobě rozšířených dvou- až čtyřstránkových abstraktů publikovat ve zvláštním svazku. V současné době vyšel již třetí sborník PDS 2004.
|
|
|
Rozvoj aparatury pro mikroobrábění elektronovým svazkem
Zobač, Martin
Práce se zabývá problematikou obrábění materiálu pomocí intenzivního elektronového svazku ve vakuu. Hlavním cílem je studium interakce elektronového svazku s kovovými a nekovovými materiály. Nedílnou součástí je příprava experimentálního zařízení, jeho vakuové části, elektronového děla a vytvoření speciální elektroniky.
|
|
|
Detekce zpětně odražených elektronů v nízkonapěťové rastrovací elektronové mikroskopii
Wandrol, Petr
Tato práce se zabývá řešením problému detekce zpětně odražených elektronů při urychlovacím napětí nižším než 3 kV scintilačním detektorem. Při takto nízkém urychlovacím napětí, a tudíž malé energii zpětně odražených elektronů, produkují scintilační monokrystaly velmi nízký počet fotonů a obraz získaný scintilačním detektorem zpětně odražených elektronů je nekvalitní. Proto je nutné, pokud chceme získat obraz materiálového kontrastu, dodat zpětně odraženým elektronům energii potřebnou pro vytvoření dostatečného množství fotonů a zároveň elektromagnetickým polem odklonit sekundární elektrony, které přinášejí do obrazu nepříznivý vliv topografického kontrastu.
|
|
| |
|
| |
|
|
Určení přesných trajektorií nabitých částic a vad soustav v částicové optice
Oral, Martin
Článek popisuje postup výpočtu aberačních koeficientů regresí. Podmínkou k výpočtu je dostupnost analytického vyjádření optických vad, které se vyžívá nejen při samotné regresi, ale i následně pro rychlý výpočet poloh částic za optickým systémem, například pro získání profilů svazků. Metoda je ilustrována na výpočtu proudové hustoty ve vychýleném svazku iontů.
|
|
| |
|
| |
|
| |
|
| |
host ::
RSS.