|
|
SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Pokorný, Pavel
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie a dalších technik. Projekt zahrnuje studium materiálů vhodných pro vytvoření planární mikrostruktury v kovové vrstvě s ohledem na dosažitelné rozlišení a splnění požadavků na absorbanci v dané aplikaci. Elektronová litografie je použita pro vytvoření požadovaného motivu v rezistové vrstvě, která slouží jako maska pro leptání kovové vrstvy různými technikami (mokré leptání, reaktivní iontové leptání). Součástí projektu je i sepsání technické dokumentace o vyvinutých postupech a připravených vzorcích.
|
|
| |
|
|
SMV-2018-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj materiálů, technologických postupů a metodiky vytváření planárních mikrostruktur. Příprava a vyhodnocení vlastností tenkých vrstev vhodných pro zápis planárních mikrostruktur, analýza mikrostruktur na elektronovém a konfokálním mikroskopu, příprava masek na litografu pro kombinované expozice, využití dalších technologií – např. UV soukrytovačky masek, RIE a dalších, ověření navržené metodiky, vyhodnocení dosažitelných parametrů, sepsání písemné zprávy.
|
|
|
SMV-2018-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
|
Creation of electron vortex beams using the holographic reconstruction method in a scanning electron microscope
Řiháček, Tomáš ; Horák, M. ; Schachinger, T. ; Matějka, Milan ; Mika, Filip ; Müllerová, Ilona
Electron vortex beams (EVB) were theoretically predicted in 2007 and first experimentally\ncreated in 2010. Although they attracted attention of many researchers, their\ninvestigation takes place almost solely in connection with transmission electron microscopes (TEM). On the other hand, although scanning electron microscopes (SEM) may provide some advantages for EVB applications, only little attention has been dedicated to them. Therefore, the aim of this work is to create electron vortices in SEM at energies of several keV.
|
|
|
Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
Horáček, Miroslav ; Knápek, Alexandr ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, M. ; Mika, Filip ; Kolařík, Vladimír
The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to\nthe exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale\nlithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and\nbeam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.\nRecently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection by\nintroducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill in\nseparate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up our\nresearch on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–\nlike arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from the\ndiffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.
|
|
|
Lift-off technology for thick metallic microstructures
Krátký, Stanislav ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Oulehla, Jindřich ; Pesic, Z.
This paper deals with a method enabling the preparation of thick metallic microstructures on metal substrates. Such metallic microstructures can be used as a resolution samples to characterize various microanalysis techniques, such as X-ray fluorescence (XRF) or X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Moreover, the\npatterned samples could be used as anodes to characterize focusing properties of X-ray tubes for micro CT systems. Considering that the standard lift-off technique is designated for structures with the thickness of several hundred nanometers at most, we had to modify lift-off technique to be possible to use it for preparation of very thick metal layers (several microns) with spatial resolution of a few microns. The mask with the desired pattern for UV exposure was prepared by e-beam lithography. SU-8 photoresist was used for a lift-off because of its aspect ratio ability, process purity and high resistance to heating. We used a thin layer of PMMA under the SU-8 masking layer to guarantee the photoresist would lift-off correctly. Thick aluminum layer was deposited by thermal evaporation. The dependence of metal layer thickness as a function of required exposed\nline width was determined. The final lift-off process was carried out in acetone ultrasonic bath. Generally, this technology can be used for the evaporate deposition of various materials with several microns thick layer in\nmicron resolution.
|
|
|
SMV-2017-27: Charakterizace vzorků s deponovanými tenkými vrstvami
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace, realizace vzorků metodou elektronové litografie a následná charakterizace vzorků. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace.
|
|
| |
|
|
Briccius Gauske ze Zhořelce v kontextu kamenosochařství poslední třetiny 15. století
Matějka, Milan ; Ottová, Michaela (vedoucí práce) ; Macek, Petr (oponent)
Magisterská práce se zabývá Briciem Gauszkem, kamenosochařem působícím na konce 15. století, který byl zaznamenán v pramenech v Görlitz, Wroclawi a Kutné Hoře. Práce se zabývá připisovaným oeuvrem, které bylo autorovi připsáno během 20. století (Kurt Bimler 1941, Mieczyslaw Zlat 1958) Eva Matějková 1962) a jehož přílišnou šíři kritizovala Michaela Ottová (2007), pomocí katalogizace připisovaných děl (Frauentor v Görlitz, Nikolaitor a radnice ve Wroclavi či Chrám sv. Barbory v Kutné Hoře, ad.) Po katalogové části jsem byl nucen uznat, že předchozí badatelé byli ve svých názorech oprávněni a Mistr Briccius byl vedoucí osobností dílny, která měla výrazný vliv na utváření podoby Wroclawi a Kutné Hory. Následuje menší kapitola zabývající se stylovým východiskem, které nás vede do dílny Jörga Syrlina st. v Ulmu, jak si již povšimla Michaela Ottová (2007).
|
host ::
RSS.