Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 164 záznamů.  začátekpředchozí153 - 162další  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
What is the buzz about the TZ mode
Kolařík, Vladimír ; Matějka, František ; Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Urbánek, Michal ; Bok, Jan ; Krátký, Stanislav ; Král, Stanislav ; Mika, Filip
This contribution deals with an e-beam pattern generator BS 600 that works with a variable rectangular spot of electrons (stamp). The TZ stands for the ‘technology zoom’; its meaning is a reduction of the spot size by a factor of 3. Original description of the TZ exposure mode can be found in (1), [2] and [3]; further aspects concerning the exposure system and its electron source were described in [4] and [5]; technology and related topics are discussed in [6], [7], [8] and [9]; overview of application areas is in [10], [11] and [12]; and finally, very recent results are summarized in [13], [14] and [15].
Postavení místních poplatků a daně z nemovitostí v rozpočtech obcí v ČR
Urbánek, Martin ; Peková, Jitka (vedoucí práce) ; Pucandlová, Miroslava (oponent)
Stěžejním přínosem této diplomové práce je zhodnocení postavení jednotlivých místních poplatků a daně z nemovitostí v rozpočtech obcí ČR. Práce nejprve hodnotí daňovou autonomii českých obcí v rámci mezinárodního srovnání a poté se zabývá otázkami, do jaké míry obce svých daňových pravomocí využívají. Obce jsou pro účely této práce rozděleny do velikostních kategorií 0 -- 500, 501 -- 2 000, 2001 -- 5 000, 5001 -- 10 000, 10 001 -- 20 000 a 20 001 -- 50 000 obyvatel. Jedním ze závěrů diplomové práce je zjištění vysoké míry averze obcí k místnímu zdanění. Obce nechtějí zvyšovat svou odpovědnost za daňový výnos nikoliv z ekonomického, ale především z politického důvodu. Volení zástupci obcí vnímají rozšiřování svých daňových pravomocí v rozporu s cílem znovuzvolení. Trvají na odpovědnosti centrální úrovně za zdanění a administrativní zabezpečení správy daně. Tento postoj lze pozorovat napříč všemi sledovanými velikostními kategoriemi obcí. Metodami diplomové práce jsou dotazníkové šetření, do kterého se zapojili starostové náhodně zvolených obcí, analýza vybraných daňových příjmů a následná komparace dat mezi jednotlivými velikostními kategoriemi obcí.
Scanning Probe Microscopy: Measuring on Hard Surfaces
Matějka, Milan ; Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír
During a measurement by scanning probe microscopy (SPM) an image artifacts can appear in a measurement data. The source of image artifacts during an SPM measurement could be in parts of the SPM tool: mechanical system, piezoelectric crystal, scanner electronic. However, the main source of image artifact is the probe tip geometry and properties of the sample. For example, probe wearing, which occurs during the contact measurement on a sample with a hard surface, could result in heavy probe shape change, causing probe-related image artifacts. Measurement could appear problematic on a sample with periodical relief structure (e.g. gratings with sub 10 μm periodicity) prepared in hard materials (e.g. silicon), when the structure height is greater than about 500 nm. In this case, probe can easily get struck during the scanning, on the hard surface as well as at the high aspect ratio relief structure, causing image artifact thus reducing measurement quality.
SPM Nanoscratching in the Sub 100 nm Resolution
Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan
Scanning probe microscopy (SPM) is tool basically used for surface characterization. Besides that, it offers several lithographic methods (e.g. nanoscratching) to prepare structures in the sub 100 nm resolution. The nanoscratching using SPM offers a method for patterning of surface with a very high resolution based on near field interaction. By this method some tiny marks or taggants could be prepared. Therefore we used the SPM nanoscratching for preparation of nanostructures in thin soft polymer films by various tips. Nanoscratching regime of SPM is possible to operate in contact and close contact modes. In the contact mode we prepared an array of stamps with a variable size, where dimensions and depth dependency on number of pixels were inspected. For writing of these structures we used polymer films with different softness (e.g. PMMA, SU-8) and various values of setpoint, which are responsible for structures deepness.
Život a dílo G. Verdiho se zaměřením na operu Don Carlos
Urbánek, Miroslav ; Podskalský, Miloslav (vedoucí práce) ; Podskalský, Miloslav (vedoucí práce) ; Tuček, René (oponent)
Giuseppe Verdi je jednou z velikých postav mezi operními skladateli 19. století. I přes svůj tragický životní osud byl plný energie, kterou přenášel do svých oper.Pro svou práci na tomto tématu jsem se rozhodl ze dvou důvodů. Prvním z nich byla skutečnost, že i přes svou značnou znalost jeho operního díla, mně nebyl znám jeho životní osud. Druhým pak jeho silná a strhující hudba opery Don Carlos.Jeho dílo vyrůstá z domácí hudební tradice a znamená vyvrcholením italské operní tvorby. Verdi vyšel ze staré opery uzavřených čísel a dospěl k prokomponovanému hudebnímu dramatu velkého stylu. Hlavní bohatství jeho oper záleží především v melodice, jejímž je nedostižným mistrem, a v charakteristických rytmech. Obojí se v nich spojuje ke kouzelnému účinku: jeho hudba potěší srdce a mysl svou jednoduchostí a čistotou. Verdi pozvedl italskou operu na novou , vyšší úroveň. Vědomě si vybíral pouze to, co mu bylo svou tvůrčí individualitou blízké a odvrhoval vše cizí. Přitom vždy chápal, že odtržením od rodné půdy se musí vyvarovat jako největšího nebezpečí.Jeho opery proto právem patří mezi nejhranější operní díla, která kdy spatřila světlo světa.
Exportní strategie firmy Emco spol. s r. o.
Urbánek, Michal ; Halík, Jaroslav (vedoucí práce)
Diplomová práce pojednává nejdříve obecně o problematice exportu. Představuji možné druhy pronikání na zahraniční trhy i rizika s tím spojená. V druhé části se již konkrétně věnuji exportním aktivitám společnosti Emco spol. s r. o.. V úvodu přibližuji exportní sortiment Emca, pozici na zahraničních trzích, a poté charakterizuji jednotlivé mezinárodní marketingové aktivity Emca. Postupně představím cenovou, výrobkovou, distribuční a komunikační politiku společnosti vůči zahraničním partnerům.
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Král, Stanislav ; Dvořáková, Marie
Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 164 záznamů.   začátekpředchozí153 - 162další  přejít na záznam:
Viz též: podobná jména autorů
4 URBÁNEK, Marek
8 URBÁNEK, Martin
3 URBÁNEK, Milan
4 Urbanek, Miroslav
4 Urbánek, Marek
8 Urbánek, Martin
2 Urbánek, Matouš
3 Urbánek, Matyáš
22 Urbánek, Michal
4 Urbánek, Miroslav
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.