Název:
Pokročilé metody laserové interferometrie a aplikace pro přesnou délkovou metrologii
Překlad názvu:
Advanced Methods of Laser Interferometry and Applications for Precision Length Metrology
Autoři:
Řeřucha, Šimon ; Číp, Ondřej ; Holá, Miroslava ; Lazar, Josef ; Mikel, Břetislav Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: LASER64, Třešť (CZ), 20241113
Rok:
2024
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Oddělení Koherenční optiky Ústavu přístrojové techniky Akademie věd ČR (ÚPT) se již několik dekád věnuje pokročilému výzkumu v oblasti laserové interferometrie a délkové metrologie. Tým skupiny Interferometrické a optovláknové instrumentace (IFI) se zaměřuje na vývoj inovativních interferometrických metod a metrologických přístrojů, které umožňují subnanometrové rozlišení a zvyšují odolnost měření i v náročných podmínkách mimo laboratoře. Významné výsledky posledních let zahrnují například návrh diferenčního interferometru, vývoj přesných laserových zdrojů s vlnovou stabilizací a pokročilých metod pro detekci fázových změn. Tato řešení našla využití jak při automatizované kalibraci měrek, tak i v souřadném odměřování v high-tech aplikacích, jako je elektronová litografie či kalibrace měřících systémů v extrémních provozních podmínkách, například v jaderných reaktorech.The Coherence Optics Department of the Institute of Scientific Instruments of the Czech Academy of Sciences (ISI CAS) has been conducting advanced research in laser interferometry and length metrology for decades. The Interferometric and Fiber Optic Instrumentation Group focuses on developing innovative interferometric methods and metrological instruments with sub-nanometer resolution. These advancements enhance measurement resilience even in challenging environments outside laboratories. Key achievements include the design of a differential interferometer, development of precise wavelength-stabilized laser sources, and advanced phase-change detection methods. These technologies have been applied in automated gauge calibration, coordinate measurement in high-tech fields like electron lithography, and calibration of measurement systems under extreme conditions, such as in nuclear reactors.
Klíčová slova:
Differential interferometer; Dimensional metrology; Extreme conditions; High-tech applications; Laser interferometry; Phase detection; Sub-nanometer resolution; Wavelength-stabilized lasers Zdrojový dokument: LA64. Sborník příspěvků multioborové konference LASER64, ISBN 978-80-87441-34-3
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0365036