Název:
Transparentní a semi-transparentní tenké vrstvy pro bioelektroniku
Překlad názvu:
Transparent and semi-transparent thin films for bioelectronics
Autoři:
Jarušek, Jaromír ; Fohlerová, Zdenka (oponent) ; Gablech, Imrich (vedoucí práce) Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok:
2024
Jazyk:
cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze][eng]
Tato práce je zaměřena na vývoj transparentních mikroelektrodových polí pro bioelektronická rozhraní s elektrogenními buňkami. Hlavní oblastí zájmu jsou in vitro aplikace s možností pozorování živých buněk na inverzním optickém mikroskopu. Teoretická část se dále zaměřuje na různé druhy transparentních a semitransparentních elektricky vodivých materiálů zahrnující vrstvy na bázi zlata, nitrid titanitý (TiN), vrstvy na bázi uhlíku, vodivé oxidy a vodivé polymery. Praktická část se zabývá optimalizací magnetronového naprašování oxidu inditého dopovaného cínem (ITO) a chemickým a elektrochemickým namáhání vrstev TiN-ITO. Závěrečná část práce je zaměřena na design, výrobu a testování planárních mikroelektrodových polí s různými materiály transparentních elektrod.
This thesis is focused on the development of transparent microelectrode arrays for bioelectronic interfaces with electrogenic cells. The main area of interest is in vitro applications suitable for the observation of living cells using an inverted optical microscope. The theoretical part further discusses different types of transparent and semitransparent electrically conductive materials including gold-based thin films, titanium nitride, carbon-based layers, conductive oxides, and conductive polymers. The experimental part is focused on the process optimization of indium tin oxide (ITO) magnetron sputtering and stressing of TiN-ITO thin films using chemical and electrochemical techniques. The last part is focused on the design, manufacturing, and testing of planar microelectrode arrays made of different electrode materials.
Klíčová slova:
bioelektronická rozhraní; mikroelektrodové pole (MEA); naprašování; Nitrid titanity (TiN); oxid inditý dopovaný cínem (ITO); bioelectronic interfaces; indium tin oxide (ITO); microelectrode array (MEA); sputtering; Titanium nitride (TiN)
Instituce: Vysoké učení technické v Brně
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT. Původní záznam: https://hdl.handle.net/11012/245949