Original title: SMV-2023-61: Odměřovací systémy pro litografy
Translated title: SMV-2023-61: Measuring systems for lithographers
Authors: Mikel, Břetislav
Document type: Research reports
Year: 2023
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj víceosých odměřovacích systémů využívajících nejpřesnější způsob měření na principu interference laserového záření. Základní referencí je laserový zdroj o vlnové délce 633 nm. Odměřovací systémy jsou určeny do zařízení vyžadující přesnost měření v řádech nanometrů. The contract research was focused on the development of multi-axis measuring systems using the most accurate method of measurement based on the principle of laser radiation interference. The basic reference is a laser source with a wavelength of 633 nm. Measuring systems are intended for devices requiring measurement accuracy in the order of nanometers.
Keywords: laser interferometry; laser source; measurement of lenght

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: https://hdl.handle.net/11104/0349225

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-613895


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports