Název: SMV-2023-61: Odměřovací systémy pro litografy
Překlad názvu: SMV-2023-61: Measuring systems for lithographers
Autoři: Mikel, Břetislav
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2023
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj víceosých odměřovacích systémů využívajících nejpřesnější způsob měření na principu interference laserového záření. Základní referencí je laserový zdroj o vlnové délce 633 nm. Odměřovací systémy jsou určeny do zařízení vyžadující přesnost měření v řádech nanometrů. The contract research was focused on the development of multi-axis measuring systems using the most accurate method of measurement based on the principle of laser radiation interference. The basic reference is a laser source with a wavelength of 633 nm. Measuring systems are intended for devices requiring measurement accuracy in the order of nanometers.
Klíčová slova: laser interferometry; laser source; measurement of lenght

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: https://hdl.handle.net/11104/0349225

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-613895


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Zprávy > Výzkumné zprávy