Název: Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Překlad názvu: Plasmonic structures fabricated by e-beam lithography
Autoři: Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2014
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice. The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.
Klíčová slova: Elektronová litografie; plazmonické struktury; PMMA.; Electron-beam lithography; plasmonic structures; PMMA.

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/33954

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-595984


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce