Original title:
Návrh vhodného etalonu délky pro oblast nanometrologie na pracovištích ČMI Brno a CEITEC Brno
Translated title:
Design of a suitable length standard for nanometology at the CMI Brno and CEITEC Brno
Authors:
Češek, Jakub ; Jankových, Róbert (referee) ; Šrámek, Jan (advisor) Document type: Master’s theses
Year:
2019
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství Abstract:
[cze][eng]
Diplomová práce se zabývá návrhem vhodného etalonu délky pro oblast nanometrologie. Tento etalon délky bude sloužit pro metrologickou návaznost přístroje Rigaku nano3DX umístěným na pracovišti CEITEC Brno a přístroje SIOS NMM-1, který je umístěn na pracovišti ČMI Brno. První část je zaměřena na popis těchto měřicích přístrojů, analýze požadavků na jejich metrologickou návaznost a požadavkům na hmotný délkový etalon. Druhá část je věnována konkrétním možnostem návrhu etalonu, 3D tisku prototypu etalonu a ověření jeho rozměrové kompatibility. V závěru práce je provedeno vyhodnocení a volba vhodného návrhu etalonu.
The thesis deals with the design of a suitable length standard for nanometrology. This length standard will be used for metrological traceability of the Rigaku nano3DX located at CEITEC Brno and the SIOS NMM-1 device which is located at ČMI Brno. The first part is focused on the description of these measuring instruments, the analysis of their metrological traceability requirements and the requirements for the material length standard. The second part is devoted to the concrete possibilities of the etalon design, 3D printing of the prototype of the standard and verification of its dimensional compatibility. At the end of the thesis, the evaluation and selection of the appropriate standard design is made.
Keywords:
accreditation; artifact; ISO 10360-2:2009; ISO/IEC 17025:2017.; metrological traceability; nano-CMM; nano-CT; Rigaku nano3DX; SIOS NMM-1; Standard; akreditace; artefakt; Etalon; ISO 10360-2:2009; ISO/IEC 17025:2017.; metrologická návaznost; nano-CMM; nano-CT; Rigaku nano3DX; SIOS NMM-1
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/179117