Název: Diagnostika bariérových vlastností tenkých vrstev
Překlad názvu: Diagnostics of thin film barrier properties
Autoři: Horák, Jakub ; Mazánková, Věra (oponent) ; Přikryl, Radek (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2012
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato bakalářská práce je zaměřena na charakterizaci vlastností tenkých SiOx vrstev připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). Vrstvy byly charakterizovány s ohledem na budoucí možné použití pro ochranu muzejních archiválií proti korozi. Jako výchozí látka pro depozici byl použit kapalný hexamethyldisiloxan a testovacím substrátem pro charakterizaci vlastností vrstev byly polypropylénové fólie a křemíkové substráty. Pro korozní zkoušky pak byly zvoleny kovové plechy. Pro charakterizaci vrstev byly použity metody měření permeační rychlosti kyslíku (OTR), infračervená spektroskopie s Fourierovou transformací (FTIR), skenovací elektronová spektroskopie (SEM), rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS), elipsometrie a jednoduché korozní testy kovových plechů nepovlakovaných a povlakovaných tenkými vrstvami SiOx. This thesis is focused on characterization of the SiOx thin layers properties prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). The layers were characterized with regard to its future possible use for the protection of the museum archives against the corrosion. Liquid hexamethyldisiloxane was used as a precursor. Polypropylene foils and silica wafers were used as substrates for thin film preparation. Metal sheets were chosen for corrosion tests. Methods such as permeation rate measurement (oxygen transmission rate - OTR), Fourier transformation infrared spectroscopy (FTIR), scanning electron microscopy (SEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), ellipsometry and simple corrosion tests of steel sheets coated and uncoated by SiOx thin layer were used for the layer properties characterization.
Klíčová slova: bariérové vlastnosti; HMDSO; OTR; plasma polymer; tenká vrstva; barrier properties; HMDSO; OTR; plasma polymer; thin layer

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/8357

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-547466


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce