Original title:
Diagnostika bariérových vlastností tenkých vrstev
Translated title:
Diagnostics of thin film barrier properties
Authors:
Horák, Jakub ; Mazánková, Věra (referee) ; Přikryl, Radek (advisor) Document type: Bachelor's theses
Year:
2012
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická Abstract:
[cze][eng]
Tato bakalářská práce je zaměřena na charakterizaci vlastností tenkých SiOx vrstev připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). Vrstvy byly charakterizovány s ohledem na budoucí možné použití pro ochranu muzejních archiválií proti korozi. Jako výchozí látka pro depozici byl použit kapalný hexamethyldisiloxan a testovacím substrátem pro charakterizaci vlastností vrstev byly polypropylénové fólie a křemíkové substráty. Pro korozní zkoušky pak byly zvoleny kovové plechy. Pro charakterizaci vrstev byly použity metody měření permeační rychlosti kyslíku (OTR), infračervená spektroskopie s Fourierovou transformací (FTIR), skenovací elektronová spektroskopie (SEM), rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS), elipsometrie a jednoduché korozní testy kovových plechů nepovlakovaných a povlakovaných tenkými vrstvami SiOx.
This thesis is focused on characterization of the SiOx thin layers properties prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). The layers were characterized with regard to its future possible use for the protection of the museum archives against the corrosion. Liquid hexamethyldisiloxane was used as a precursor. Polypropylene foils and silica wafers were used as substrates for thin film preparation. Metal sheets were chosen for corrosion tests. Methods such as permeation rate measurement (oxygen transmission rate - OTR), Fourier transformation infrared spectroscopy (FTIR), scanning electron microscopy (SEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), ellipsometry and simple corrosion tests of steel sheets coated and uncoated by SiOx thin layer were used for the layer properties characterization.
Keywords:
barrier properties; HMDSO; OTR; plasma polymer; thin layer; bariérové vlastnosti; HMDSO; OTR; plasma polymer; tenká vrstva
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/8357