Original title: Depozice Al a AlN ultratenkých vrstev na křemíkový a grafenový substrát
Translated title: The deposition of Al and AlN ultrathin layers on silicon and graphene substrate
Authors: Řihák, Radek ; Čech, Vladimír (referee) ; Mach, Jindřich (advisor)
Document type: Master’s theses
Year: 2016
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract: [cze] [eng]
Tato diplomová práce se zabývá přípravou a analýzou ultratenkých vrstev hliníku a nitridu hliníku. Vrstvy byly připraveny depozicí z efuzních cel navržených v rámci předchozí bakalářské práce autora. Jejich konstrukce a testování je v práci rovněž zahrnuta. Experimentálně byly zkoumány vlastnosti hliníkových vrstev na nativním oxidu křemíku, křemíku a grafenu. Rovněž je zde popsána příprava nitridu hliníku pomocí dusíkového iontového zdroje. This master's thesis deals with preparation and analysis of ultrathin films of aluminum and aluminum nitride. Films were prepared by effusion cells designed in previous bachelor's thesis. Cell construction and testing is included in this thesis. Behavior of aluminum on silicon dioxide, silicon and graphene was studied. Preparation of aluminum nitride by effusion cell and nitrogen ion source is described.
Keywords: Aluminum; aluminum nitride; effusion cell; MBE; UHV; ultrathin films; efuzní cela; Hliník; MBE; nitrid hliníku; UHV; ultratenké vrstvy

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/60737

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-547276


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Master’s theses