Název: Transparent and conductive titanium nitride thin films for implantable bioelectronics deposited at low temperature using two Kaufman ion-beam sources
Autoři: Jarušek, J. ; Gablech, I.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Jazyk: eng
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: This work proposes ultra-thin films of titanium nitride as a material for the realization of transparent and conductive layers suitable for implantable bioelectronics. Results further show that good results of crystallography, transmittance, and sheet resistance can be achieved for thin films with thicknesses of 15 nm and 20 nm deposited at the beam energy of the primary ion source of 400 eV and temperature below 100 °C.
Klíčová slova: bioelectronics implants; sputtering; thin films; titanium nitride; transparent conducting film; visible transmittance
Zdrojový dokument: Proceedings I of the 28st Conference STUDENT EEICT 2022: General papers, ISBN 978-80-214-6029-4

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/209297

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-524724


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Konferenční materiály > Příspěvky z konference