Original title:
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Translated title:
SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM
Authors:
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav Document type: Research reports
Year:
2021
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice a rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.Research and development of accurate calibration samples with relief structures. The samples are intended for parameter calibration of scanning electron microscope (SEM). Testing patterns allow to check and calibrate magnification, orthogonality and geometric distortion. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed.
Keywords:
e-beam lithography; microlithography; relief structure; silicon etching
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0321890