Název: SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
Překlad názvu: SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems
Autoři: Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Kopal, Jaroslav
Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok: 2021
Jazyk: cze
Abstrakt: [cze] [eng]
Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. Parametry byly ověřeny pomocí skenování povrchu sondou. An amplitude mask was developed, implemented and characterized according to the partner's documents. The notation of the motif in an electron beam device and related technological operations were used for the preparation. The parameters were verified by scanning the surface with a probe.
Klíčová slova: e-beam lithography; lithography mask

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0321889

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-449117


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Zprávy > Výzkumné zprávy