Název: Characterization Of Aln Nanolayers Deposited On A Surface Of Hopg By Pe-Ald
Autoři: Dallaev, Rashid
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Jazyk: eng
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: In this study plasma-enhanced atomic layer deposition process of AlN has been performedwith the purpose to test the expediency of highly oriented pyrolytic graphite (HOPG) to serve as asubstrate in such process. The obtained samples were thoroughly analyzed using various analyticaltechniques. Atomic force microscopy was employed for studying topographic and morphologicalfeatures of the surface; x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis supported by second ionmassspectrometry method (SIMS) has been conducted on the obtained sample to investigate thechemical nature of the deposited films as well as elemental distribution. Temperature stability ofHOPG makes it a suitable substrate for preparation of AlN films, being a bottom contact for furthertesting of the films electrical properties. The data gathered from the aforementioned techniques haveindicated that HOPG is a viable choice for AlN ALD process.
Klíčová slova: aluminium nitride; atomic force microscopy; atomic layer deposition; highly oriented pyrolytic graphite; second ion-mass spectrometry; x-rayphotoelectron spectroscopy
Zdrojový dokument: Proceedings II of the 27st Conference STUDENT EEICT 2021: Selected papers, ISBN 978-80-214-5943-4

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/200839

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-447883


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Konferenční materiály > Příspěvky z konference