Original title: Infračervená spektroskopie tenkých vrstev
Translated title: Infrared spectroscopy of thin films
Authors: Kiss, Andrej ; Čáslavský, Josef (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2020
Language: eng
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract: [eng] [cze]
Cílem této bakalářské práce je literární rešerše v oblasti tenkých vrstev, plazmochemické depozice z plynné fáze a infračervené spektroskopie Fourierovou transformací, a měření infračervených spekter tenkých vrstev a charakterizace jejich chemické struktury na základě změřených spekter. Pomocí infračervené spektroskopie Fourierovou transformací bylo měřeno pět vzorků tenkých polymerních vrstev z tetravinylsilanu, vytvořených na křemíkovém substrátu pomocí plazmochemické depozice z plynné fázi s efektivním výkonem v rozmezí od 2 W do 150 W. Měření odhalilo chemické vazby přítomné ve vzorcích a jak se struktura měnila s měnící se efektivním výkonem. Snížení absorpčních pásů s přítomností vodíku naznačuje zvýšení zesítění se zvýšeným efektivním výkonem. Také snížení absorpčních pásů s přítomností křemíku poskytuje důkaz pro zvýšení poměru C/Si. Tyto výsledky nám pomáhají porozumět charakteristikám těchto tenkých vrstev a přispívají k pochopení procesu plazmochemické depozice z plynné fáze. The objective of this Bachelor thesis is a literary research in the fields of thin films, plasma enhanced chemical vapor deposition technique, and Fourier transform infrared spectroscopy in order to measure the infrared spectra of thin films and characterise its chemical structure based on the measured spectra. Five samples of plasma polymer films of tetravinylsilane, deposited on silicon wafers using plasma enhanced chemical vapor deposition with effective power ranging from 2 to 150 W were measured with Fourier transform infrared spectroscope. The measurement revealed the chemical bonds present in the five samples and how the structure changed with changing effective power. The decrease in the absorption bands with hydrogen presence suggest an increase of crosslinking with enhanced power. Also, the decrease in the band with silicon presence provides evidence for the increase of C/Si ratio. These results help us understand the characteristics of these thin films and contribute to the understanding the plasma enhanced chemical vapor deposition process.
Keywords: infračervená spektroskopie s Fourierovou transformací (FTIR).; PECVD; Tenké vrstvy plazmová polymerace; tetravinylsilan; Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR).; PECVD; plasma polymerisation; tetravinylsilane; Thin films

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/195133

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-432770


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses