Název: Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes
Autoři: Schauer, F. ; Schauer, Petr ; Kuřitka, I. ; Hua, B.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: CJCS’09 - Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology /4./, Brno (CZ), 2009-08-10 / 2009-08-14
Rok: 2009
Jazyk: eng
Abstrakt: The main purpose of this paper is to compare the photoluminescence (PL) and cathodoluminescence (CL) after major degradation, predominantly in long wavelength range 400 - 600 nm, studying the disorder due to dangling bonds, conformational transformations and weak bonds created by the degradation process.
Klíčová slova: cathodoluminescence; photoluminescence; silicon-based polymer resist
Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP)
Zdrojový dokument: Proceedings of the 4th Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology (CJCS’09), ISBN 978-80-254-4535-8

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0179805

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-40971


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference