Název:
Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes
Autoři:
Schauer, F. ; Schauer, Petr ; Kuřitka, I. ; Hua, B. Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: CJCS’09 - Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology /4./, Brno (CZ), 2009-08-10 / 2009-08-14
Rok:
2009
Jazyk:
eng
Abstrakt: The main purpose of this paper is to compare the photoluminescence (PL) and cathodoluminescence (CL) after major degradation, predominantly in long wavelength range 400 - 600 nm, studying the disorder due to dangling bonds, conformational transformations and weak bonds created by the degradation process.
Klíčová slova:
cathodoluminescence; photoluminescence; silicon-based polymer resist Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP) Zdrojový dokument: Proceedings of the 4th Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology (CJCS’09), ISBN 978-80-254-4535-8
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0179805