Original title:
SMV-2019-16: Návrh technologie přípravy a realizace mnohovrstvého EUV systému
Translated title:
SMV-2019-16: Deposition technology and implementation of EUV multilayer system
Authors:
Fořt, Tomáš Document type: Research reports
Year:
2019
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Návrh technologie přípravy a realizace mnohovrstvých systémů střídajících ve dvojvrstvách hořčík a křemík popřípadě molybden a křemík vytvořené magnetronovým naprašováním tak, aby drsnost rozhraní uvedených vrstev nepřesahovala 0,1 nanometry a reprodukovatelnost tlouštěk dvouvrstev byla lepší než jedna desetina nanometru. Mnohovrstvý systém byl použit jako EUV zrcadlo.We have developed deposition technology and implementation of multilayer systems of Mg/Si or molybdenum and silicon prepared by magnetron sputtering. Interface roughness has to be smaller than 0.1 nm and reproducibility of bilayer thickness (i.e. molybdenum or Mg and silicon) must be better that 0.1 nm. This multilayer system was used as a EUV mirror.
Keywords:
EUV mirror; Extreme Ultraviolet mirror; X-ray mirror
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0303601