Original title: Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System
Translated title: Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu
Authors: Matějka, František ; Horáček, Miroslav ; Lencová, Bohumila ; Kolařík, Vladimír
Document type: Papers
Conference/Event: Multinational Congress on Microscopy /8./, Prague (CZ), 2007-06-17 / 2007-06-21
Year: 2007
Language: eng
Abstract: [eng] [cze]
The minimum stamp size of the electron-beam writing system working with rectangular variable-size beam shape was reduced from 100 nm to 50 nm by modification of electron-optical system. Consequently the writing speed was increased due to four time higher current density. Úpravou elektronově optického systému byl zmenšen minimální rozměr razítka v elektronovém litografu pracujícím s pravoúhlým tvarovatelným svazkem ze 100 nm na 50 nm. Následně došlo ke zvýšení rychlosti zápisu díky čtyřikrát zvýšené proudové hustotě.
Keywords: e-beam writing system.; rectangular-shaped electron beam
Project no.: CEZ:AV0Z20650511 (CEP), GA102/05/2325 (CEP)
Funding provider: GA ČR
Host item entry: Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy, ISBN 978-80-239-9397-4

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0152867

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-37985


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Conference materials > Papers