Original title:
Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System
Translated title:
Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu
Authors:
Matějka, František ; Horáček, Miroslav ; Lencová, Bohumila ; Kolařík, Vladimír Document type: Papers Conference/Event: Multinational Congress on Microscopy /8./, Prague (CZ), 2007-06-17 / 2007-06-21
Year:
2007
Language:
eng Abstract:
[eng][cze] The minimum stamp size of the electron-beam writing system working with rectangular variable-size beam shape was reduced from 100 nm to 50 nm by modification of electron-optical system. Consequently the writing speed was increased due to four time higher current density.Úpravou elektronově optického systému byl zmenšen minimální rozměr razítka v elektronovém litografu pracujícím s pravoúhlým tvarovatelným svazkem ze 100 nm na 50 nm. Následně došlo ke zvýšení rychlosti zápisu díky čtyřikrát zvýšené proudové hustotě.
Keywords:
e-beam writing system.; rectangular-shaped electron beam Project no.: CEZ:AV0Z20650511 (CEP), GA102/05/2325 (CEP) Funding provider: GA ČR Host item entry: Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy, ISBN 978-80-239-9397-4
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0152867