Název:
SMV-2017-23: Optimalizace nanolitografie
Překlad názvu:
SMV-2017-23: Optimization of nanolitography
Autoři:
Jákl, Petr ; Šerý, Mojmír Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok:
2017
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Zlepšení rozlišení dvoufotonové fotopolymerace pomocí odstranění optických aberací a optimalizace ohniska laserového svazku.Two-photon photopolymerization technique was improved by decreasing optical aberrations and optimization of laser beam.
Klíčová slova:
laser beam shaping; two photon photopolymerization
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0278450