Název:
Návrh difraktivních struktur pro elektronový litograf BS600
Překlad názvu:
Design of diffractive elements manufactured on electron-beam lithograph BS600
Autoři:
Daněk, Lukáš Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: PDS 2004, Brno (CZ), 2005-03-15
Rok:
2005
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Cílem práce je vypracování postupu návrhu a expozice difraktivních struktur s požadovanými difraktivními vlastnostmi. Práce se především zabývá návrhem expozičních dat odpovídajících zvoleným technologickým podmínkám.The goal of this work is to evolve techniques to design diffractive elements of required diffractive properties. The work mainly deals with design of exposition data correspondent to chosen technological conditions.
Klíčová slova:
diffractive structures; Electron-beam lithography Číslo projektu: CEZ:AV0Z20650511 (CEP) Zdrojový dokument: PDS 2004 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronové optiky, ISBN 80-239-4561-0
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0111284