Original title:
Víceúrovňové difraktivní struktury pro optické aktivní elementy
Translated title:
Multi-level diffraction structures for optical active elements
Authors:
Daněk, Lukáš Document type: Papers Conference/Event: PDS 2002, Brno (CZ), 2002-12-16
Year:
2002
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Práce se zabývá vytvářením víceúrovňových difraktivních struktur pomocí elektronové litografie. Zaměřuje se především na eliminaci vlivu blízkosti okolních expozic, označovanou též "proximity efekt".The work concerns with creation of multi-level diffraction structures by electron lithography. It is focused mainly on elimination of the influence of proximity of surrounding expositions known also as the 'proximity effect'.
Keywords:
electron lithography; multilevel diffraction structures Project no.: CEZ:AV0Z2065902 (CEP) Host item entry: Sborník prací prezentovaných na Semináři doktorandů oboru Elektronová optika konaném dne 16. 12. 2002, ISBN 80-238-9915-5
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0101203