Název:
Víceúrovňové difraktivní struktury pro optické aktivní elementy
Překlad názvu:
Multi-level diffraction structures for optical active elements
Autoři:
Daněk, Lukáš Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: PDS 2002, Brno (CZ), 2002-12-16
Rok:
2002
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Práce se zabývá vytvářením víceúrovňových difraktivních struktur pomocí elektronové litografie. Zaměřuje se především na eliminaci vlivu blízkosti okolních expozic, označovanou též "proximity efekt".The work concerns with creation of multi-level diffraction structures by electron lithography. It is focused mainly on elimination of the influence of proximity of surrounding expositions known also as the 'proximity effect'.
Klíčová slova:
electron lithography; multilevel diffraction structures Číslo projektu: CEZ:AV0Z2065902 (CEP) Zdrojový dokument: Sborník prací prezentovaných na Semináři doktorandů oboru Elektronová optika konaném dne 16. 12. 2002, ISBN 80-238-9915-5
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0101203