Název: Temperature monitoring of the EBL facility
Autoři: Kolařík, Vladimír ; Horáček, Miroslav ; Matějka, František
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Electronic devices and systems conference 2002, Brno (CZ), 2002-06-09 / 2002-06-10
Rok: 2002
Jazyk: eng
Abstrakt: The long-term temperature stability of the EBL Laboratory is a crucial condition required for homogenous large-area expositions. A temperature monitoring system and run-time conditions are summarised in this paper.
Klíčová slova: data analysis; electron-beam lithography; temperature monitoring
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2065902 (CEP), IBS2065014 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA AV ČR
Zdrojový dokument: Electronic devices and systems 02 - proceedings. Experimental methods in acoustic and electromagnetic emission, ISBN 80-214-2180-0

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0101138

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-29561


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference